6月19日，电科装备山西中电科公司自主研制的卧式碳化硅化学气相沉积装备顺利发往客户现场，标志着电科装备的涂层设备“单项冠军”培育计划实现新突破，迈出了公司拓展新市场领域的重要一步。

　　

　　本次发货的设备是山西中电科公司采用全新设计理念开发的第三代卧式碳化硅化学气相沉积装备，其结构设计与工艺技术均由公司自主研发。设备采用高精度温控系统，可将石墨基体温差精准调控在1℃以内，确保工艺过程稳定；利用CFD数值模拟技术对装备结构和工艺参数进行优化调整，有效提升了生产质量与效率。

　　经过多次工艺优化调试，设备可顺利实现涂层制品纯度≥99.9999%，碳化硅涂层制品厚度100μm±10%，主要晶型、晶向、硬度等关键技术指标达到国内领先水平。

　　下一步，山西中电科公司将继续落实“单项冠军”培育计划，持续深化技术创新，稳步提升产品性能和服务质量，进一步扩大电科装备的科研优势与市场竞争力，为我国半导体产业发展提供更强大的技术支持和装备保障。