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低压扩散炉设备
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发布时间：2022年10月11日
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产品型号：M5111-13/UM型
产品简介：扩散炉是半导体生产线前道工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。 低压扩散炉在太阳能行业主流磷扩散、硼扩散工艺，其中磷扩散设备用于P型晶体硅PERC工艺中PN结的制备，硼扩散设备用于N型晶体硅TOPCON工艺中PN结的制备。
应用领域：新能源-光伏产业链生产企业
核心参数：工艺种类：磷扩散
可选管数：5管/台、6管/台、10管/台、12管/台
石英管内径：≥420MM
典型装片量：182硅片：2640片/管、2200片/管（顺气流）
210硅片：2000片/管、1800片/管（顺气流）
182硅片：1600片/管（常规方形）
210硅片：1600片/管（常规方形）
温度控制范围：600℃-1150℃
恒温区长度及精度：≤±0.5℃/2500MM(800℃-1100℃)
≤±1℃/2500MM(600℃-799℃)
温度速率：最大升温速率为20℃/MIN,
最大降温速率为8- 9℃/MIN(快速冷却功能)
方阻均匀性：片内≤5%、片间≤4%、批间≤4%(75 - 150Ω/SQ)
片内≤6%、片间≤5%、批间≤4%(150 - 180Ω/SQ)
工作压力：50 - 1000mBar(闭环控制)
联系人：黄凌飞 联系方式：18684881206
