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低压氧化退火炉设备
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发布时间：2022年10月11日
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产品型号：M5011-3/UM型
产品简介：氧化/退火炉是半导体生产线前道工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的氧化、退火、合金及烧结等工艺。低压氧化/退火炉在太阳能行业晶体硅的氧化、退火工艺。
应用领域：新能源-光伏产业链生产企业
核心参数：工艺种类：氧化、退火
可选管数：5管/台、6管/台、10管/台、12管/台
石英管内径：≥420MM
典型装片量：182硅片：2640片/管，2200片/管（顺气流)
210硅片：2000片/管，1800片/管（顺气流)
182硅片：1600片/管（常规方形）
210硅片：1600片/管（常规方形)
温度控制范围：600℃-1100℃
恒温区长度及精度：≤±0.5C/2200MM (800℃-1100℃)
≤±1℃/2200MM (600℃-799℃)
温度速率：最大升温速率为20℃/MIN,
最大降温速率为8- 9℃/MIN(快速冷却功能)
工作压力：50 - 1000mBar(闭环控制)
联系人：黄凌飞 联系方式：18684881206
