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立式扩散设备
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发布时间：2022年10月11日
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产品型号：M5211-6/UM型
产品简介：扩散炉是半导体生产线前道工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。低压扩散炉主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂，在太阳能电池制造中，扩散工艺用于 PN结制造。相比较传统卧式炉管设备，立式扩散设备具备：高效稳定，高精度温度控制性能，良好工艺效果和低能耗等技术优势。
应用领域：新能源-光伏产业链生产企业
核心参数：工艺种类：磷扩散、硼扩散
可选管数：6管/台、12管/台
石英管内径：≥350MM
典型装片量：182硅片：1400片/舟 210硅片：1200片/舟
恒温区长度及精度：≤±0.5℃/1700MM(800℃-1150℃)；≤±1℃/1700MM(600℃-799℃)
方阻均匀性：片内:≤5%、片间:≤4%、批间:≤4%(75 – 150Ω/sq)
片内:≤6%、片间:≤5%、批间:≤4%(150- 180Ω/sq)
温度控制范围：600℃-1150℃
温度速率：最大降温速率为10℃/min(快速冷却功能)
工作压力：50-1000Mbar(闭环控制）
联系人：黄凌飞 联系方式：18684881206
