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平板式PEOPVD设备
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发布时间：2022年10月11日
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产品型号：RST-8000型
产品简介：设备采用等离子体增强化学气相沉积技术和物理气相沉积技术实现一次工艺过程中在高效背面隧穿钝化接触（TOPCon）太阳电池硅片的背面沉积超薄隧穿氧化层和原位掺杂非晶硅薄膜的沉积。
应用领域：新能源-光伏产业链生产企业
核心参数：型号：RST-8000
成膜种类：氧化硅(1~2nm)/原位掺杂非晶硅(>100nm)
镀膜方式：下镀膜
载板规格：182MM - 210MM，120片/批
膜厚均匀性：4%（片内)、4%（片间)、4%(批间)
表面形貌：外观均匀、无明显微粒、气泡、色差等异常
钝化效果：iVoc≥730mV(碱抛片+双面SiOx/Poly)
掺杂浓度：>5E20
靶材利用率：>80%
产能：>8000片/时
联系人：黄凌飞 联系方式：18684881206
