原子层沉积设备
产品型号:RSD-100型
产品简介:本设备为单腔体原子层沉积系统,专为实验室工艺研发、材料开发等功能开发的一款多功能实验性平台,可针对性实现钙钛矿太阳能电池(PSCS)电子传输层薄膜(TIO2 、SNO2等)的制备。
应用领域:新能源-光伏产业链生产企业
核心参数:型号:横流型原子层沉积设备
成膜种类:Al
2O
3,TiO
2,SiO
2,SnO
2,AIN,TiN等
载板规格:158mm~ 210mm,4~8片/批
工艺温度:20-400℃(温度不均匀性≤±2℃)
极限真空度:≤3PA
膜厚均匀性:2.5%(片内)、2.5%(片间)、2.5%(批间)
前驱体源:液态,固态,气态,臭氧源
源瓶容量:标准50mL挥发式容器/100mL载气辅助式容器,其他规格可定制
循环时间:5s/cycle
联系人:黄凌飞 联系方式:18684881206