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原子层沉积设备
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发布时间：2022年10月11日
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产品型号：RSD-100型
产品简介：本设备为单腔体原子层沉积系统，专为实验室工艺研发、材料开发等功能开发的一款多功能实验性平台，可针对性实现钙钛矿太阳能电池（PSCS）电子传输层薄膜（TIO2 、SNO2等）的制备。
应用领域：新能源-光伏产业链生产企业
核心参数：型号：横流型原子层沉积设备
成膜种类：Al
2O
3，TiO
2，SiO
2，SnO
2，AIN，TiN等
载板规格：158mm~ 210mm，4~8片/批
工艺温度：20-400℃（温度不均匀性≤±2℃)
极限真空度：≤3PA
膜厚均匀性：2.5%(片内)、2.5%（片间)、2.5%（批间)
前驱体源：液态，固态，气态，臭氧源
源瓶容量：标准50mL挥发式容器/100mL载气辅助式容器，其他规格可定制
循环时间：5s/cycle
联系人：黄凌飞 联系方式：18684881206
