原子层沉积设备

来源:     作者:石小川     发布时间:2022年10月11日     浏览次数:         

产品型号RSD-100型

产品简介:本设备为单腔体原子层沉积系统,专为实验室工艺研发、材料开发等功能开发的一款多功能实验性平台,可针对性实现钙钛矿太阳能电池(PSCS)电子传输层薄膜(TIO2 、SNO2等)的制备。

应用领域:新能源-光伏产业链生产企业

核心参数:型号:横流型原子层沉积设备              

                 成膜种类:Al 2O 3,TiO 2,SiO 2,SnO 2,AIN,TiN等
                 载板规格:158mm~ 210mm,4~8片/批
                 工艺温度:20-400℃(温度不均匀性≤±2℃)
                 极限真空度:≤3PA
                 膜厚均匀性:2.5%(片内)、2.5%(片间)、2.5%(批间)
                 前驱体源:液态,固态,气态,臭氧源
                 源瓶容量:标准50mL挥发式容器/100mL载气辅助式容器,其他规格可定制
                 循环时间:5s/cycle

联系人:黄凌飞        联系方式:18684881206

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