扫描式磁控溅射设备
产品型号:RSP-100型
产品简介:PVD又称物理气相沉积,RSP-100为多靶水平磁控溅射系统,专为实验室工艺研发、材料开发等功能开发的一款多功能实验性平台,可满足自动往复多次镀膜的要求。
应用领域:新能源-光伏产业链生产企业
核心参数:型号:RSP-100
成膜种类:ITO/AZO/IZO/NiO2/Cu等
载板规格:210×210 mm,载片量2×2=4片
膜厚范围:20-110nm
膜厚均匀性:5%(片内)、5%(片间)、5%(批间)
极限真空度:≤1E-4Pa
靶基距:75mm-90mm可调
阴极配置:平面靶、旋转靶
温度范围:25-350℃
联系人:黄凌飞 联系方式:18684881206