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扫描式磁控溅射设备
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发布时间：2022年10月11日
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产品型号：RSP-100型
产品简介：PVD又称物理气相沉积，RSP-100为多靶水平磁控溅射系统，专为实验室工艺研发、材料开发等功能开发的一款多功能实验性平台，可满足自动往复多次镀膜的要求。
应用领域：新能源-光伏产业链生产企业
核心参数：型号：RSP-100
成膜种类：ITO/AZO/IZO/NiO2/Cu等
载板规格：210×210 mm，载片量2×2=4片
膜厚范围：20-110nm
膜厚均匀性：5%(片内)、5%(片间)、5%（批间)
极限真空度：≤1E-4Pa
靶基距：75mm-90mm可调
阴极配置：平面靶、旋转靶
温度范围：25-350℃
联系人：黄凌飞 联系方式：18684881206
