扫描式磁控溅射设备

来源:     作者:石小川     发布时间:2022年10月11日     浏览次数:         

产品型号RSP-100型

产品简介:PVD又称物理气相沉积,RSP-100为多靶水平磁控溅射系统,专为实验室工艺研发、材料开发等功能开发的一款多功能实验性平台,可满足自动往复多次镀膜的要求。

应用领域:新能源-光伏产业链生产企业

核心参数:型号:RSP-100

                 成膜种类:ITO/AZO/IZO/NiO2/Cu等
                 载板规格:210×210 mm,载片量2×2=4片
                 膜厚范围:20-110nm
                 膜厚均匀性:5%(片内)、5%(片间)、5%(批间)
                 极限真空度:≤1E-4Pa
                 靶基距:75mm-90mm可调
                 阴极配置:平面靶、旋转靶
                 温度范围:25-350℃

联系人:黄凌飞        联系方式:18684881206

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