中能大束流离子注入机
产品型号:CI C200
产品简介:中能大束流离子注入机兼具较高的能量和较大的流强,基于成熟的大束流离子注入机平台,兼容B/P/As/In/H/He/O/等多种离子。可满足功率器件,SOI材料制备等不同工艺需求。
应用领域:Power Device,SOI(SMARTCUT,SIMOX)
核心参数:离子能量(Energy):5-200 keV;
晶片尺寸(Wafer Size):12 inch,8 inch;
注入元素:B,P,As,In,H,He,O;
剂量注入范围(Dose Range):1E14 - 3E17 ions/cm2;
注入剂量均匀性(Uniformity):离子能量>10keV:1σ<1.0%
Energy,离子能量<10keV:1σ<1.5%Energy
联系人:胡东京 联系方式:18611091830