立式LPCVD
产品型号:M51200-4/UM
产品简介:设备特点:1、全自动传送,定位精准,稳定可靠;2、高洁净工艺环境;3、设备内部形成局部净化环境,有效控制污染;4、工艺气体充分预热,气氛均匀,精确温控; 5、薄膜均匀性佳。
应用领域:用于集成电路制造中的坚膜氧化层、多晶硅淀积;适用工艺有TEOS、Poly、SiNo
核心参数:1、晶片尺寸:8"(兼容6 ");
2、典型工艺温度:500°C~800°C ;
3、恒温区长度:≥860mm;
4、单点控温精度:≤±0.5°C;
5、最大载片量:170片;
6、极限真空:≤20mtoir;
7、新增颗粒:≤30 ( ≥0.2um);
8、金属污染:<5E10atm/
cm2
联系人:李富石 联系方式:15973176321