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立式LPCVD
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发布时间：2022年10月12日
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产品型号：M51200-4/UM
产品简介：设备特点：1、全自动传送，定位精准，稳定可靠；2、高洁净工艺环境；3、设备内部形成局部净化环境，有效控制污染;4、工艺气体充分预热，气氛均匀，精确温控； 5、薄膜均匀性佳。
应用领域：用于集成电路制造中的坚膜氧化层、多晶硅淀积；适用工艺有TEOS、Poly、SiNo
核心参数：1、晶片尺寸：8"（兼容6 "）;
2、典型工艺温度：500°C~800°C ;
3、恒温区长度：≥860mm;
4、单点控温精度：≤±0.5°C;
5、最大载片量：170片；
6、极限真空：≤20mtoir;
7、新增颗粒：≤30 （ ≥0.2um）;
8、金属污染:<5E10atm/
cm2
联系人：李富石 联系方式：15973176321
