Semicore Horizon-T 150/200 兼容设备 CMP

来源:     作者:石小川     发布时间:2022年12月22日     浏览次数:         

产品型号:Semicore Skylens CMP

产品简介:1. Architecture

                     3 platens, 4 head 
                     2 brushes enhance cleaner effective
                     High WPH
                  2. Process
                     满足特殊工艺以及三代半导体需求(WIW&WTW<5%) 
                     干进干出工艺,降低wafer二次沾染
                  3. Advanced Process Control
                      I-scan/Laser/Motor torque

应用领域:应用于IC制造、STI,ILD,contactor,metal line、BCD,IGBT,5G芯片制造中的平坦化工艺,满足特殊工艺以及三代半导体需求(碳化硅等)

核心参数:一、Semicore Horizon-T 200CMP

                         Oxide 运行指标
                    1.  Hardware criteria 
                         WPH:45
                         MTBF:>200hrs
                         MTTR:<3.5hrs
                    2.  Process basic criteria 
                         Removal rate NU(5mm EE):<3%(mean)&<5%(max)
                         Head to Head RR Range:≤200A/min
                   二、Semicore Horizon-T 200CMP
                          W 运行指标
                     1.  Hardware criteria 
                          WPH:35
                          MTBF:>200hrs
                          MTTR:<3.5hrs
                     2.  Process basic criteria 
                          Removal rate NU(5mm EE):<3%(mean)&<5%(max)
                          Head to Head RR Range:≤300A/min
                    三、Semicore Horizon-T 150CMP
                          Oxide 运行指标
                     1.  Hardware criteria 
                          WPH:45
                          MTBF:>200hrs
                          MTTR:<3.5hrs
                     2.  Process basic criteria 
                          Removal rate NU(5mm EE):<8%
                          Head to Head RR Range:≤200A/min
                   四、Semicore Horizon-T 150CMP
                          W 运行指标
                     1.  Hardware criteria 
                          WPH:35
                          MTBF:>200hrs
                          MTTR:<3.5hrs
                     2.  Process basic criteria 
                          Removal rate NU(5mm EE):<8%
                          Head to Head RR Range:≤300A/min

联系人:李岩        联系方式:18515063073

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